Pokračujeme v díle těch,
kteří byli první.

Aktuální vydání

Číslo 1/2017 vyšlo
tiskem 18. 1. 2017. V elektronické verzi na webu od 17. 2. 2017. 

Téma: Elektrotechnologie; Materiály pro elektrotechniku; Nástroje a pomůcky; Značení

Hlavní článek
Analýza dat fotovoltaického systému během zatmění Slunce
Rizikovost zapojení biometrických identifikačních systémů

Aktuality

Fakulta elektrotechnická ČVUT v Praze představí zájemcům o studium moderní techniku i její historii Fakulta elektrotechnická ČVUT v Praze pořádá v pátek 20. ledna od 8.30 hodin první…

Loňská výroba Temelína by stačila k pokrytí téměř roční spotřeby českých domácností Přesně 12,1 terawatthodin elektřiny (TWh) loni vyrobila Jaderná elektrárna Temelín. Je to…

Osmý ročník Robosoutěže Fakulty elektrotechnické ČVUT v Praze ovládli studenti Gymnázia Zlín V pátek 16. prosince se v Zengerově posluchárně Fakulty elektrotechnické ČVUT na Karlově…

Společnost ABF převzala značku projektu SVĚTLO V ARCHITEKTUŘE Specializovanou výstavu svítidel, designu a příslušenství s názvem SVĚTLO V ARCHITEKTUŘE…

Chytré lampy v Praze Do hlavního města Prahy vstoupily „chytré lampy“. Nová technologie je součástí chytrých…

Fakulta elektrotechnická ČVUT v Praze zve na finále ROBOSOUTĚŽE Zajímavá technické řešení a soutěžní napětí nabídne 16. prosince finále letošní…

Více aktualit

Plazmové technologie (část 1)

číslo 8-9/2005

Plazmové technologie (část 1)

prof. Václav Černý

1. Úvod

Plazma je považováno za čtvrtý stav látky s posloupností: pevná fáze, kapalina, plyn, plazma. Plazma je zpravidla tvořeno kladnými ionty1) a elektrony2). Kladné ionty mají jen jeden elementární náboj. V úplně ionizovaném plazmatu jsou všechny částice ionizovány. Na rozdíl od plynu má plazma velkou tepelnou kapacitu i vodivost a podléhá účinkům elektrického i magnetického pole. Teplota částečně ionizovaného plazmatu činí 5 až 15 kK a plně ionizovaného plazmatu až 100 kK. Střední energii plazmatu lze vyjádřit v elektronvoltech3) (eV), přičemž platí:

1 eV = 11,6 kK = 1,602·10–19 J

Závislost mezi kinetickou energií elektronu a jeho teplotou lze vyjádřit vztahem:

Ue = 0,5mv2 = 1,5kT

kde m je hmotnost elektronů, v rychlost elektronů, Ue energie plazmatu, T teplota plazmatu a k Boltzmanova konstanta (1,38·10–23 J·K–1).

Plazmové generátory se dělí na:

  • plazmové generátory s elektrodami,
  • plazmové generátory s vysokofrekvenčním elektromagnetickým polem.
Obr. 1.

Obr. 1. Principiální schéma plazmových generátorů s elektrodami (1 – wolframová tyčová katoda, 2 – měděná anoda s vodním chlazením, 3 – zpracovávaný materiál, 4 – vnější anoda, 5 – vnitřní anoda, 6 – plazma)

U generátorů s elektrodami vzniká plazma mezi dvěma elektrodami připojenými na stejnosměrný zdroj (obr. 1). Elektrody jsou obvykle z wolframu, pracovním plynem je kyslík. Na obr. 1a je plazmový generátor s vyfukovaným výbojem a přímým připojením na stejnosměrný zdroj, na obr. 1b plazmový generátor se stejnosměrným zdrojem paralelně připojeným na anodu a zpracovávaný materiál, na obr. 1c plazmový generátor se samostatným přívodem pomocného plynu (argonu) a pracovního plynu (CO2, H2, N2). Tyto generátory se běžně používají při nanášení materiálu, svařování a řezání. Přídavný materiál je přiváděn ve formě prášku nebo drátu. Elektrody jsou však také zdrojem nečistot, a proto tyto generátory nejsou vhodné pro technologie, kde je vyžadována vysoká čistota. Téměř s absolutní čistotou pracují vysokofrekvenční indukční generátory, tzv. plazmatrony.

2. Vysokofrekvenční indukční plazma

Vysokofrekvenční indukční plazma (ICP – Inductivity Coupled Plasma) je moderní metoda rozkladu vzorku a excitace atomů pomocí plazmatu, která zaručuje vysokou čistotu výroby. Tato technologie se prosazuje zejména v průmyslu, ale i ve veřejné a občanské oblasti. Obr. 2. Uplatňuje se při vytváření potahů z plastů, při svařování armatur, úpravě povrchů ocelových plechů, při vývoji nových materiálů, zlepšování jejich vlastností, povrchové úpravě, recyklaci materiálů, zpracování odpadu a v medicínském oboru při dezinfekci a likvidaci nemocničních odpadů. Obecné uplatnění plazma nachází v osvětlovacích a informačních systémech a při ozonové úpravě vody. Důležitý význam má plazma s teplotou nad 10 kK (tzv. vysokoteplotní plazma) při tavení materiálů s vysokou teplotou tání.

Obr. 2. Princip plazmatronu (1 – pracovní plyn, 2 – centrální plyn, 3 – obalový plyn, 4 – přívodní trubka pracovního prášku, 5 – indukční cívka na obalové rouře, 6 – trysk plazmatu)

Na obr. 2 je zobrazen princip vysokofrekvenčního indukčního plazmatronu. Dopravní (pracovní) plyn (1) a obalový plyn (3) mají samostatné přívody oddělené od roury s centrálním plynem (2).

Obalová roura firmy TEKNA Plasma Systems Inc. (tab. 1 plazmatron 1) je keramická s vodním chlazením. Ohraničuje prostor plazmatu a odděluje od sebe přiváděné plyny. Na obalové rouře je epoxidovou pryskyřicí upevněna indukční cívka. Firma FG Plasma- und Oberflächentechnik (tab. 1 plazmatron 2) používá pro přívod centrálního a obalového plynu rouru z křemenného skla. To umožňuje sledování plazmatu i dráhy práškových částic v něm.

(pokračování)


1) Iont (též ion) je elektricky nabitá částice vytvořená z neutrálního atomu, resp. molekuly, ztrátou (vzniká kation) či získáním (vzniká anion) jednoho nebo více elektronů.

2) Elektron je stabilní elementární částice (fermion) bez vnitřní struktury se záporným elementárním elektrickým nábojem e = 1,602·10–19 C. Klidová hmotnost elektronu je me = 9,109·10–31 kg. V atomech tvoří elektrony tzv. elektronový obal, jehož prostřednictvím atomy chemicky reagují s jinými částicemi.

3) Elektronvolt je vedlejší jednotka soustavy SI pro energii. 1 eV je energie udělená částici s elementárním elektrickým nábojem potenciálním rozdílem 1 V.