Pokračujeme v díle těch,
kteří byli první.

Aktuální vydání

Číslo 11/2016 vyšlo tiskem
7. 11. 2016. V elektronické verzi na webu od 1. 12. 2016. 

Téma: Rozváděče a rozváděčová technika; Točivé stroje a výkonová elektronika

Hlavní článek
Lithiové trakční akumulátory pro elektromobilitu

Aktuality

Svítící fasáda FEL ČVUT nabídne veřejnosti interaktivní program s názvem Creative Colours of FEL Dne 13. prosince v 16.30 hodin se v pražských Dejvicích veřejnosti představí interaktivní…

Fakulta elektrotechnická je na špici excelentního výzkumu na ČVUT Expertní panely Rady vlády pro výzkum, vývoj, inovace (RVVI) vybraly ve II. pilíři…

Švýcaři v referendu odmítli uzavřít jaderné elektrárny dříve V referendu hlasovalo 45 procent obyvatel, z toho 54,2 procent voličů řeklo návrhu na…

Fakulta elektrotechnická ČVUT v Praze pořádá 25. 11. 2016 den otevřených dveří Fakulta elektrotechnická ČVUT v Praze pořádá 25. listopadu od 8.30 hodin Den otevřených…

Calliope mini – multifunkční deska Calliope mini poskytuje kreativní možnosti pro každého. A nezáleží na tom, zda jde o…

Ocenění v soutěži České hlavičky získal za elektromagnetický urychlovač student FEL ČVUT Student programu Elektronika a komunikace Fakulty elektrotechnické ČVUT v Praze Vojtěch…

Více aktualit

Plasma EPOS technology

číslo 6/2003

Téma: Elektrické pohony a výkonová elektronika

Plasma EPOS technology

Low Power Rectifier neboli diodová usměrňovací technika nižších výkonů je k dostání v selekci čipů, SMT a vývodových pouzdrech. Zahrnuje standardní, rychlé a ultrarychlé usměrňovače, Schottky, zenerovy a TVS diody, stejně jako diodová pole, jednofázové a třífázové můstky. Všechny SEMIKRON nízkonapěťové součástky jsou vyráběny za použití plazma EPOS technologie.

Plazma EPOS (Etched and Protected On Slice) technologie je ekologicky a ekonomicky výhodnější metoda ve srovnání s tradičními mokrými chemickými leptanými procesy. Kvalita čipů může být měřena před pouzdřením, což se odráží ve vyšším výnosu, menším odpadu a nižších nákladech při výrobě. Místo používání agresivních roztoků je leptání a první pasivace prováděna takřka ve vakuových podmínkách. Plazmové leptání se používá pro čištění pn-přechodů a tok plynu odstraňuje částečky, takže se nemohou znovu usazovat na waferu. Zbývající čistá mřížka je ihned pasivována proudem plazmy se silikon nitridem a takto pasivované mřížky na waferu jsou poté plněny polysiloxanem.

SEMIKRON je rodinný podnik již třetí generace s 2500 zaměstnanci po celém světě. Globální síť 45 společností zaručuje rychlou a efektivní podporu pro zákazníky. Od konce roku 2001 je přímo zastoupen i v České republice.

SEMIKRON je jediný rodinný podnik ve svém odvětví s mezinárodní působností pracující nezávisle na bankách a nadnárodních skupinách. Společnost rovněž splňuje nejvyšší kvalitativní standardy QS 9000/VDA 6.1, které jsou vyžadovány v automobilovém průmyslu.

Podle studie vypracované Britským institutem pro tržní výzkum – IMS má SEMIKRON, vedoucí nezávislý výrobce výkonové elektroniky na světě, vůdčí postavení na evropském trhu s výkonovými moduly s tržním podílem 34%.

SEMIKRON nabízí řešení od jednoho dodavatele: od chipů, diskrétních, IGBT/MOSFET/diodových/ tyristorových modulů, řídících obvodů, CIB/IPM až po kompletní výkonové elektronické subsystémy. SEMIKRON postupuje dále v řešení potřeb trhu díky inovaci nového SKiMu® – IGBT modulu se snap-on driverem a SKiiPu® 3, integrovaného inteligentního výkonového subsystému.

Jako významný vynálezce v oblasti výkonové elektroniky přispěl k zavedení mnoha z pionýrských vývojů jako průmyslového standardu. Mezi jinými SEMIKRON vynalezl první izolovaný výkonový modul na světě, SEMIPACK®, kterého se v současné době používají miliony po celém světě.

www.semikron.com