Pokračujeme v díle těch,
kteří byli první.

Aktuální vydání

Číslo 2/2017 vyšlo
tiskem 17. 2. 2017. V elektronické verzi na webu od 10. 3. 2017. 

Téma: Elektrické přístroje – spínací, jisticí, ochranné a signalizační; Přístroje pro inteligentní sítě

Hlavní článek
Atypický návrh výkonového stejnosměrného zdroje se středofrekvenčním transformátorovým filtrem rušivého napětí

Aktuality

V distribuční soustavě (DS) ČEZ Distribuce, a. s. je vyhlášen kalamitní stav Od 9 h dne 24.2.2017 je vyhlášen kalamitní stav v Karlovarském kraji - okres Karlovy Vary…

Veletrh Věda Výzkum Inovace 2017 zahájí místopředseda vlády Pavel Bělobrádek Letošní ročník Veletrhu Věda Výzkum Inovace zahájí na brněnském výstavišti 28. února 2017…

Chytré lampy PRE potvrdily zhoršenou smogovou situaci v Praze Chytré lampy PRE potvrdily v rámci svého pilotního provozu, že v Holešovicích a…

Jak se bydlí v pasivních domech, řeknou jejich majitelé na veletrhu FOR PASIV Další ročník veletrhu FOR PASIV, který je zaměřený na projektování a výstavbu…

Fakulta elektrotechnická ČVUT v Praze představí zájemcům o studium moderní techniku i její historii Fakulta elektrotechnická ČVUT v Praze pořádá v pátek 20. ledna od 8.30 hodin první…

Loňská výroba Temelína by stačila k pokrytí téměř roční spotřeby českých domácností Přesně 12,1 terawatthodin elektřiny (TWh) loni vyrobila Jaderná elektrárna Temelín. Je to…

Více aktualit

Plasma EPOS technology

číslo 6/2003

Téma: Elektrické pohony a výkonová elektronika

Plasma EPOS technology

Low Power Rectifier neboli diodová usměrňovací technika nižších výkonů je k dostání v selekci čipů, SMT a vývodových pouzdrech. Zahrnuje standardní, rychlé a ultrarychlé usměrňovače, Schottky, zenerovy a TVS diody, stejně jako diodová pole, jednofázové a třífázové můstky. Všechny SEMIKRON nízkonapěťové součástky jsou vyráběny za použití plazma EPOS technologie.

Plazma EPOS (Etched and Protected On Slice) technologie je ekologicky a ekonomicky výhodnější metoda ve srovnání s tradičními mokrými chemickými leptanými procesy. Kvalita čipů může být měřena před pouzdřením, což se odráží ve vyšším výnosu, menším odpadu a nižších nákladech při výrobě. Místo používání agresivních roztoků je leptání a první pasivace prováděna takřka ve vakuových podmínkách. Plazmové leptání se používá pro čištění pn-přechodů a tok plynu odstraňuje částečky, takže se nemohou znovu usazovat na waferu. Zbývající čistá mřížka je ihned pasivována proudem plazmy se silikon nitridem a takto pasivované mřížky na waferu jsou poté plněny polysiloxanem.

SEMIKRON je rodinný podnik již třetí generace s 2500 zaměstnanci po celém světě. Globální síť 45 společností zaručuje rychlou a efektivní podporu pro zákazníky. Od konce roku 2001 je přímo zastoupen i v České republice.

SEMIKRON je jediný rodinný podnik ve svém odvětví s mezinárodní působností pracující nezávisle na bankách a nadnárodních skupinách. Společnost rovněž splňuje nejvyšší kvalitativní standardy QS 9000/VDA 6.1, které jsou vyžadovány v automobilovém průmyslu.

Podle studie vypracované Britským institutem pro tržní výzkum – IMS má SEMIKRON, vedoucí nezávislý výrobce výkonové elektroniky na světě, vůdčí postavení na evropském trhu s výkonovými moduly s tržním podílem 34%.

SEMIKRON nabízí řešení od jednoho dodavatele: od chipů, diskrétních, IGBT/MOSFET/diodových/ tyristorových modulů, řídících obvodů, CIB/IPM až po kompletní výkonové elektronické subsystémy. SEMIKRON postupuje dále v řešení potřeb trhu díky inovaci nového SKiMu® – IGBT modulu se snap-on driverem a SKiiPu® 3, integrovaného inteligentního výkonového subsystému.

Jako významný vynálezce v oblasti výkonové elektroniky přispěl k zavedení mnoha z pionýrských vývojů jako průmyslového standardu. Mezi jinými SEMIKRON vynalezl první izolovaný výkonový modul na světě, SEMIPACK®, kterého se v současné době používají miliony po celém světě.

www.semikron.com